形位公差检测装置
授权
摘要
本申请实施例公开了形位公差检测装置。该形位公差检测装置的一具体实施方式包括：主框架、千分表、千分表的支架和底端固定装置；千分表用于检测待测平面的形位公差，其中，待测平面设置于包含基准平面和基准孔的待测零件上；支架包括第一支架和第二支架；第一支架和第二支架相对于主框架对向设置，第一支架和第二支架上均设置有千分表；底端固定装置设置于主框架的底端，用于固定待测零件。该实施方式提供的形位公差检测装置操作简单，可以对包含基准平面和基准孔的待测零件上的两组待测平面的形位公差进行检测。
基本信息
专利标题 ：
形位公差检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921629164.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-27
授权号 ：
CN210689433U
授权日 ：
2020-06-05
发明人 ：
刘得伟李书田陈岳宏
申请人 ：
北京京东乾石科技有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区科创十一街18号院2号楼19层A1905室
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN201921629164.5
主分类号 ：
G01B5/00
IPC分类号 ：
G01B5/00 G01B5/25 G01B5/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B5/00
以采用机械方法为特征的计量设备
法律状态
2020-06-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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