污染防护装置及参数确定方法、物镜防护系统、光刻机

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摘要

本发明公开了一种污染防护装置及参数确定方法、物镜防护系统、光刻机。该污染防护装置包括包括至少一组防护组件；待清洁物体与防护组件沿第一方向依次设置，且待清洁物体的待清洁表面靠近防护组件；防护组件包括至少一组清洁结构和至少一个对置物；同一防护组件中，清洁结构和对置物沿第二方向间隔排列；清洁结构中设置有供气通道；对置物、清洁结构和待清洁表面共同围成第一清洁气体传输通道，供气通道包括出风口，供气通道通过出风口与第一清洁气体传输通道连通；第一方向与第二方向交叉。本发明实施例提供的污染防护装置，可以避免污染物质与待清洁表面接触，同时保证第一清洁气体传输通道的光学透过率。

基本信息

专利标题：

污染防护装置及参数确定方法、物镜防护系统、光刻机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111435221A

申请号：

CN201910032440.8

公开（公告）日：

2020-07-21

申请日：

2019-01-14

授权号：

CN111435221B

授权日：

2022-04-01

发明人：

龚辉张洪博张瑞平王锋

申请人：

上海微电子装备(集团)股份有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

孟金喆

优先权：

CN201910032440.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20