用于确定图案化过程参数的方法
授权
摘要
一种用于确定图案化过程参数的方法，该方法包括：针对目标，从利用包括中心波长的辐射照射该目标所获得的数据计算中间参数的第一值；针对该目标，从利用包括两种不同中心波长的辐射照射该目标所获得的数据计算该中间参数的第二值；并且基于该中间参数的第一值和第二值计算图案化过程参数的组合测量。
基本信息
专利标题 ：
用于确定图案化过程参数的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111133384A
申请号 ：
CN201880061025.9
公开（公告）日 ：
2020-05-08
申请日 ：
2018-09-12
授权号 ：
CN111133384B
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
M·J·J·杰克S·G·J·马斯杰森K·布哈塔查里亚张源宰边珍武
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
郑振
优先权 ：
CN201880061025.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-15 ：
授权
2020-06-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180912
申请日 : 20180912
2020-05-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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