用于确定图案化过程参数的方法

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摘要

一种方法包括：使用第一量测选配方案测量使用图案化过程处理的衬底上的量测目标的多个第一示例，以确定所述图案化过程的至少一个参数的值，所述第一量测选配方案用于将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射；以及使用第二量测选配方案测量同一衬底上的量测目标的不同的多个第二示例，以确定所述图案化过程的至少一个参数的值，所述第二量测选配方案用于将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射，其中，在将辐射施加到所述量测目标的示例并检测来自所述量测目标的示例的辐射的至少一个特性方面，所述第二量测选配方案与所述第一量测选配方案不同。

基本信息

专利标题：

用于确定图案化过程参数的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110998454A

申请号：

CN201880053049.X

公开（公告）日：

2020-04-10

申请日：

2018-07-31

授权号：

CN110998454B

授权日：

2022-04-12

发明人：

A·齐亚托马斯E·G·麦克纳马拉

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

胡良均

优先权：

CN201880053049.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20