用于基于显影后图像确定图案缺陷的方法
实质审查的生效
摘要
本文中描述了一种训练模型的方法，该模型被配置为预测与成像衬底相关联的特征在成像衬底的蚀刻之后是否将有缺陷，并且基于已训练模型确定蚀刻条件。该方法包括经由量测工具获取(i)在给定位置处的成像衬底的显影后图像，显影后图像包括多个特征，以及(ii)在给定位置处的成像衬底的蚀刻后图像；以及使用显影后图像和蚀刻后图像训练模型，该模型被配置为确定显影后图像中的多个特征中的给定特征的缺陷。在一个实施例中，缺陷的确定基于将显影后图像中的给定特征与蚀刻后图像中的对应蚀刻特征进行比较。
基本信息
专利标题 ：
用于基于显影后图像确定图案缺陷的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556228A
申请号 ：
CN202080072957.0
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·库伊曼M·皮萨伦科A·斯拉克特M·J·马斯洛B·A·奥雅曾·里维拉W·T·特尔R·C·玛斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080072957.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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