用于光刻过程性能确定的方法以及设备
实质审查的生效
摘要
用于确定光刻图案化过程的性能的方法以及设备，该设备或方法被配置为或包括：接收衬底的一部分的图像，该衬底的该部分包括第一区以及第二区，第一区包括与在第一时间对衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征，并且第二区包括与在第二时间对衬底进行的第二光刻曝光相关联的第二特征，其中，第一区和第二区不重叠，并且其中，第一特征和第二特征形成沿着第一区的至少一部分以及第二区的至少一部分延伸的单个特征；以及基于与第一区和第二区之间的边界相关联的已曝光的第一特征和/或已曝光的第二特征的特征特性确定光刻图案化过程的性能。
基本信息
专利标题 ：
用于光刻过程性能确定的方法以及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341741A
申请号 ：
CN202080061884.5
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·沃克曼林裴冷布兰丁·玛丽·安德烈·里奇特·明格蒂V·巴斯塔尼M·哈伊赫曼达L·M·韦尔甘-于泽弗兰斯·雷尼尔·斯皮林
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080061884.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200805
申请日 : 20200805
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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