用于确定视场设定的方法
实质审查的生效
摘要
本文中披露一种确定用于具有可配置的视场FOV的检查工具的视场设定的方法，该方法包括：获得衬底的至少一部分上的特征的工艺裕度分布；获得阈值；依赖于所获得的工艺裕度分布和阈值来识别衬底的至少一部分上的一个或更多个区；以及依赖于识别的所述一个或更多个区来确定视场设定。
基本信息
专利标题 ：
用于确定视场设定的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514476A
申请号 ：
CN202080070675.7
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
W·T·特尔H·A·迪伦科恩·蒂斯洛朗·米歇尔·马塞尔·德普雷C·普伦蒂斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080070675.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200903
申请日 : 20200903
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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