用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统
公开
摘要
公开了一种装置和方法，其中预脉冲能量的液滴外测量代替液滴上测量被用于脉冲能量控制。预脉冲能量在液滴外非曝光时段期间测量并且被控制到预脉冲能量设定点。然后预脉冲能量可以在液滴上时段期间被开环控制到预脉冲能量设定点。这有效地将EUV剂量控制回路与预脉冲能量控制回路解耦，并且避免了耦合这种回路的负面影响，例如，损失剂量控制器可用的剂量调节范围的一部分。
基本信息
专利标题 ：
用于在EUV光源中进行源材料调节的激光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114271032A
申请号 ：
CN202080058626.1
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-08-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·R·格雷厄姆S·里奇S·W·麦克罗根
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080058626.1
主分类号 ：
H05G2/00
IPC分类号 ：
H05G2/00 G03F7/20
法律状态
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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