用于极紫外光辐射源设备的极紫外光收集器反射镜及极紫外光辐...
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摘要
一种用于极紫外光辐射源设备的极紫外光收集器反射镜及极紫外光辐射源设备。用于极紫外光(EUV)辐射源设备的EUV收集器反射镜包括：EUV收集器反射镜主体，其上设置反射层作为反射表面；加热器，附接到或嵌入EUV收集器反射镜主体；以及排泄结构，用于将熔化的金属从EUV收集器反射镜主体的反射表面排泄到EUV收集器反射镜主体的背侧。
基本信息
专利标题 ：
用于极紫外光辐射源设备的极紫外光收集器反射镜及极紫外光辐射源设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110658694A
申请号 ：
CN201910578340.5
公开（公告）日 ：
2020-01-07
申请日 ：
2019-06-28
授权号 ：
CN110658694B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
陈昱至郑博中陈立锐简上傑余昇刚颜炜峻
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201910578340.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-02-04 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190628
申请日 : 20190628
2020-01-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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