反射镜阵列
授权
摘要
一种反射镜阵列，所述反射镜阵列中的至少一些反射镜包括反射表面和从与所述反射表面相反的表面延伸的臂，其中所述反射镜阵列还包括支撑结构，所述支撑结构设置有多个感测设备，所述感测设备配置成测量所述感测设备和从所述反射镜延伸的臂之间的间隙。
基本信息
专利标题 ：
反射镜阵列
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110520799A
申请号 ：
CN201880024636.6
公开（公告）日 ：
2019-11-29
申请日 ：
2018-03-08
授权号 ：
CN110520799B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
M·M·L·施特格侯刚天M·尤塞菲莫格哈德丹
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王静
优先权 ：
CN201880024636.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180308
申请日 : 20180308
2019-11-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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