量测装置及其检测设备
实质审查的生效
摘要
公开了一种用于量测装置的检测设备，所述量测装置能够操作以根据已从样本散射的被散射的辐射测量感兴趣的参数。所述检测装置包括检测器，所述检测器包括像素阵列。所述像素阵列包括：成像像素，所述成像像素用于检测图像，所述感兴趣的参数是根据所述图像确定的；和方向检测像素，所述方向检测像素用于检测所述被散射的辐射在所述检测器上的入射角度。
基本信息
专利标题 ：
量测装置及其检测设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270267A
申请号 ：
CN202080058034.X
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-07-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·潘迪
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080058034.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200715
申请日 : 20200715
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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