用于量测设备的照射和检测设备
实质审查的生效
摘要
公开了一种用于量测工具的照射和检测设备以及相关方法。该设备包括照射装置，该照射装置能够被操作以产生测量照射，该测量照射包括多个离散波长带并且在每个波长带内包括具有至多单个峰的光谱。该检测装置包括检测分束器以将散射辐射分成多个通道，每个通道与所述波长带中的不同的波长带相对应；以及至少一个检测器，用于分开地检测每个通道。
基本信息
专利标题 ：
用于量测设备的照射和检测设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270269A
申请号 ：
CN202080058446.3
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-07-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·潘迪S·G·J·马斯杰森K·布哈塔查里亚A·J·登博夫
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080058446.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B27/14 G02B27/12 G02B27/10 G01N21/956 G01J3/36 G01J3/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200714
申请日 : 20200714
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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