量测系统、相干加扰器照射源及其方法
实质审查的生效
摘要
一种系统包括辐射源和相控阵列。相控阵列包括光学元件、波导和相位调制器。相控阵列产生辐射束。光学元件辐射辐射波。波导将辐射从辐射源引导到光学元件。相位调制器调整辐射波的相位，使得辐射波累积以形成束。束的非相干量基于相位的随机化。
基本信息
专利标题 ：
量测系统、相干加扰器照射源及其方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114502911A
申请号 ：
CN202080067756.1
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-09-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
I·D·塞蒂贾A·J·登博夫M·斯维拉姆A·J·A·伯克曼
申请人 ：
ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080067756.1
主分类号 ：
G01B11/00
IPC分类号 ：
G01B11/00 G01B11/24 G01N21/25 G01N21/45 G01N21/47 G02B27/48 G02F1/295 G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/00
申请日 : 20200915
申请日 : 20200915
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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