波长选择模块、照射系统和量测系统
实质审查的生效
摘要
描述了一种用于量测设备的波长选择模块。该波长选择模块包括：一个或多个滤波器元件，可操作为接收包括多个波长的输入辐射束，以提供对相应输出辐射束的波长特性的选择控制。所述一个或多个滤波器元件中的至少一个包括至少两个线性可变滤波器。
基本信息
专利标题 ：
波长选择模块、照射系统和量测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341737A
申请号 ：
CN202080058807.4
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
G·范德祖克M·J·M·范达姆J·索非尔德R·P·范戈科姆
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN202080058807.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G01J3/02 G01J3/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200723
申请日 : 20200723
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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