量测系统和相控阵列照射源
实质审查的生效
摘要
一种系统包括辐射源、第一相控阵列和第二相控阵列以及检测器。第一相控阵列和第二相控阵列包括光学元件、多个端口、波导和相位调制器。光学元件辐射辐射波。波导将辐射从多个端口中的一个端口引导到光学元件。相位调制器调整辐射波的相位。第一相控阵列和第二相控阵列中的一者或两者基于被耦合到辐射源的端口来形成被引导朝向目标结构的第一辐射束和/或第二辐射束。检测器接收由目标结构散射的辐射并且基于接收到的辐射来生成测量信号。
基本信息
专利标题 ：
量测系统和相控阵列照射源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450638A
申请号 ：
CN202080067850.7
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·斯维拉姆T·M·T·A·M·埃拉扎雷S·鲁林宇翔J·L·克鲁泽
申请人 ：
ASML控股股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
赵林琳
优先权 ：
CN202080067850.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/67 G01B11/27 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200923
申请日 : 20200923
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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