粒子线照射系统及粒子线照射设施
实质审查的生效
摘要
本发明减小粒子线治疗系统的设置面积。本公开的一方案的粒子线照射系统具备：加速器，其设置于地面，且对带电粒子束进行加速；输送装置，其输送从加速器射出的带电粒子束；照射装置，其向照射对象照射由输送装置输送来的带电粒子束；以及机架，其设置于地面，且安装有照射装置。另外，机架具有：旋转体，其使照射装置绕照射对象旋转；以及支撑装置，其在使旋转体的向地面的投影面和加速器或输送装置的向地面的投影面至少一部分重叠的位置从地面支撑旋转体。
基本信息
专利标题 ：
粒子线照射系统及粒子线照射设施
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269429A
申请号 ：
CN202080059278.X
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-06-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
泷泽贤一西内秀晶片寄雅
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
曾贤伟
优先权 ：
CN202080059278.X
主分类号 ：
A61N5/10
IPC分类号 ：
A61N5/10
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61N
电疗；磁疗；放射疗；超声波疗
A61N5/00
放射疗
A61N5/10
X射线治疗法，γ射线治疗法；粒子照射疗法
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : A61N 5/10
申请日 : 20200625
申请日 : 20200625
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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