粒子束治疗装置以及照射野形成方法
授权
摘要
本发明提供一种粒子束治疗装置以及照射野形成方法，其课题在于在粒子束治疗装置中，避免扫描部或者包含该扫描部的照射装置的大型化，并且将照射野扩大。在扫描部(34)的下游侧设置有移位部(36)。移位部(36)使作为粒子束的碳束偏转而使照射野移位，由此产生扩大照射野。移位部(36)包含使照射野沿Y方向移位的第1移位电磁铁(42)和使照射野沿X方向移位的第2移位电磁铁(44)。扫描部(34)被动态地控制，移位部(36)被静态地控制。
基本信息
专利标题 ：
粒子束治疗装置以及照射野形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111569274A
申请号 ：
CN201911198933.5
公开（公告）日 ：
2020-08-25
申请日 ：
2019-11-26
授权号 ：
CN111569274B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
岛仓智一中岛千博远竹聪富田和雄藤田毅
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
曾贤伟
优先权 ：
CN201911198933.5
主分类号 ：
A61N5/10
IPC分类号 ：
A61N5/10
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61N
电疗；磁疗；放射疗；超声波疗
A61N5/00
放射疗
A61N5/10
X射线治疗法，γ射线治疗法；粒子照射疗法
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2020-09-18 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : A61N 5/10
申请日 : 20191126
申请日 : 20191126
2020-08-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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