量测参数确定和量测配方选择

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摘要

一种方法，该方法包括：对于使用图案化工艺创建的具有偏置的第一目标结构和不同偏置的第二目标结构的量测目标，获得包括用于第一目标结构的信号数据与用于第二目标结构的信号数据之间关系的量测数据，该量测数据是针对多个不同量测配方获得的，并且每个量测配方指定不同的测量参数；确定通过针对多个不同量测配方的量测数据的统计的拟合曲线或拟合函数作为参考；以及标识至少两个不同量测配方，所述至少两个不同量测配方的集体量测数据从所述参考的参数的变化超过或满足特定阈值。

基本信息

专利标题：

量测参数确定和量测配方选择

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN110998455A

申请号：

CN201880053401.X

公开（公告）日：

2020-04-10

申请日：

2018-06-18

授权号：

CN110998455B

授权日：

2022-04-19

发明人：

K·布哈塔查里亚S·G·J·马斯杰森M·J·诺特A·J·登博夫M·哈吉阿玛迪F·法哈德扎德

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

王茂华

优先权：

CN201880053401.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20