用于确定复值场的量测方法和装置
实质审查的生效
摘要
公开了测量结构的方法，以及相关联的量测装置和计算机程序。所述方法包括：获得与对第一衬底上的第一结构进行的测量相关的散射辐射的振幅分布；和获得与对参考衬底上的至少一个参考结构进行的参考测量相关的参考相位分布。所述至少一个参考结构是与所述第一结构不同但是在至少多个关键参数方面名义上相同的结构。所述方法还包括：根据所述振幅分布和参考相位分布确定用于描述所述第一结构的复值场。
基本信息
专利标题 ：
用于确定复值场的量测方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341738A
申请号 ：
CN202080059847.0
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
N·潘迪A·P·康宁贝格
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080059847.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200731
申请日 : 20200731
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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