一种射线直接数字成像检测低曝光量标准参数确定方法
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摘要

本发明涉及基建技术领域,特别涉及一种射线直接数字成像检测低曝光量标准参数确定方法。该方法包括:加工制作工艺试验标定块、选用检测设备和材料、射线机工作准备、设置检测透照方法、设置DR检测系统、布置检测标记和像质计、工艺参数试验和生成标准工艺参数图。本发明提供的射线直接数字成像检测低曝光量标准参数确定方法,通过生成DR低曝光量标准工艺参数连续拟合图,可以快速准确的查找或计算各种厚度焊缝DR检测的标准工艺参数,有效提高DR检测质量和检测工效,降低检测曝光量,提高射线作业安全性。

基本信息
专利标题 :
一种射线直接数字成像检测低曝光量标准参数确定方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112557423A
申请号 :
CN202010964127.0
公开(公告)日 :
2021-03-26
申请日 :
2020-09-15
授权号 :
CN112557423B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
陈剑刘家发单忠斌董利苹赵洪元
申请人 :
中国石油天然气集团有限公司;大庆石油管理局有限公司;大庆油田建设集团有限责任公司
申请人地址 :
北京市东城区东直门北大街9号中国石油大厦
代理机构 :
大庆知文知识产权代理有限公司
代理人 :
马微
优先权 :
CN202010964127.0
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-04-13 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/04
申请日 : 20200915
2021-03-26 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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