在光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置
授权
摘要
本发明涉及一种在特别是微光刻的光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置，该装置包括：光学元件(110、510、610)；衍射结构(120、420、450、460、520、620)，具有局部变化的光栅周期；以及强度传感器布置；其中在光学系统的操作期间、以至少一级衍射在衍射结构(120、420、450、460、520、620)处衍射的电磁辐射通过光学元件(110、510、610)内实现的全内反射被指引到强度传感器布置。
基本信息
专利标题 ：
在光学系统中的元件的曝光期间确定曝光能量的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110989181A
申请号 ：
CN201910908044.7
公开（公告）日 ：
2020-04-10
申请日 ：
2019-09-24
授权号 ：
CN110989181B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
T.弗兰克
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN201910908044.7
主分类号 ：
G02B27/10
IPC分类号 ：
G02B27/10 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/10
光束分解或组合系统
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-05-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/10
申请日 : 20190924
申请日 : 20190924
2020-04-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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