用于量测应用中的相干性加扰的方法和设备
实质审查的生效
摘要
披露了一种光瞳整形布置，所述光瞳整形布置用于获得被配置成用于在量测应用中使用的量测照射束的经限定光瞳强度分布。所述光瞳整形布置包括工程扩散器，所述工程扩散器具有被配置成将所述经限定光瞳强度分布施加到所述量测照射束的经限定远场分布。所述光瞳整形布置还可包括多模光纤(MMF)，并且被配置成减少相干辐射的空间相干性。
基本信息
专利标题 ：
用于量测应用中的相干性加扰的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556224A
申请号 ：
CN202080071911.7
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周子理乔安科·拉文斯卑尔根
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080071911.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00 G02B27/48 G02B27/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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