衬底保持器、光刻设备和方法
公开
摘要

本发明提供一种用于支撑衬底的衬底保持器、一种包括所述衬底保持器的光刻设备、和一种支撑所述衬底的方法。所述衬底保持器包括主体、多个支撑销、和板。所述板被定位在所述主体的表面与由所述多个支撑销所形成的支撑表面之间。所述板能够在沿所述主体的所述表面与所述支撑表面之间的所述多个支撑销的方向上致动。所述衬底保持器也可以包括主体、柔性构件和从所述主体的表面突伸的固定的构件。所述柔性构件将封闭腔室限定于其中且被配置成与支撑在所述衬底保持器上的所述衬底形成密封。所述衬底保持器被配置成减小所述柔性构件的所述封闭腔室中的压力。

基本信息
专利标题 :
衬底保持器、光刻设备和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114270270A
申请号 :
CN202080058840.7
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2020-07-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
A·斯克鲁德尔G·克拉默L·波斯特马
申请人 :
ASML荷兰有限公司
申请人地址 :
荷兰维德霍温
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
王益
优先权 :
CN202080058840.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H01L21/67  H01L21/687  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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