用于保持光刻设备的物体的卡盘和夹具和用于控制光刻设备的夹...
授权
摘要
一种光刻设备包括被配置用于接收物体(402)的夹具(406)。夹具限定被配置用于在第一流体温度传递流体的至少一个通道(408)。光刻设备也包括耦合至夹具的卡盘(404)。卡盘(404)限定配置用于将卡盘与夹具热绝缘的至少一个孔洞(464)。
基本信息
专利标题 ：
用于保持光刻设备的物体的卡盘和夹具和用于控制光刻设备的夹具保持的物体的温度的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110716396A
申请号 ：
CN201911002613.8
公开（公告）日 ：
2020-01-21
申请日 ：
2016-10-05
授权号 ：
CN110716396B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
A·H·凯沃特斯R·W·L·拉法雷M·L·尼尔森J·C·G·范德桑登M·A·奇达T·尤特迪杰克G·奥克诺
申请人 ：
ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
张宁
优先权 ：
CN201911002613.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/683
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2020-02-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20161005
申请日 : 20161005
2020-01-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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