光刻版夹具
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种光刻版夹具,包括一底座,所述底座上固设有一安装架,所述安装架边缘设有内径小于光刻版外径的夹持部,所述夹持部内侧设有放置光刻版的凸垫,其中,所述夹持部由韧性材料制成;所述底座中心还设有一可与马达/电机配合的转动装置。所述转动装置为设置于底座中心的可与马达/电机轴干配合转动的通孔,或所述转动装置为设置于底座中心的转动轴,以及可与所述转动轴配合的传动带或传动齿轮。本实用新型对光刻版的表面冲洗更充分,清洗效果好,且光刻版与夹具通过过盈配合固定在一起,夹具与光刻版的接触面积很小,可以很好地保护光刻版特别是版图面不受损坏。
基本信息
专利标题 :
光刻版夹具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820092598.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-03-14
授权号 :
CN201188170Y
授权日 :
2009-01-28
发明人 :
王友旺
申请人 :
深圳深爱半导体有限公司
申请人地址 :
518029广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
郑小粤
优先权 :
CN200820092598.1
主分类号 :
G03F1/00
IPC分类号 :
G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
法律状态
2017-05-03 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101716989541
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008200925981
申请日 : 20080314
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20160314
号牌文件序号 : 101716989541
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008200925981
申请日 : 20080314
授权公告日 : 20090128
终止日期 : 20160314
2011-12-28 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101249912685
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008200925981
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳深爱半导体有限公司
变更后 : 深圳深爱半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518029 广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼
变更后 : 518118 广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号
号牌文件序号 : 101249912685
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利号 : ZL2008200925981
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳深爱半导体有限公司
变更后 : 深圳深爱半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518029 广东省深圳市福田区八卦三路光纤小区2栋3楼
变更后 : 518118 广东省深圳市龙岗区宝龙工业城宝龙七路3号
2009-01-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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