本实用新型公开一种光刻组件、光刻设备以及基板，光刻组件用于在光刻工艺中对基板作用，以在所述基板上形成隔垫物，光刻组件包括掩模版和调光结构，其中，掩模版形成有曝光区域，曝光区域用于在光刻工艺中对应基板上的隔垫物基底处设置；调光结构设于曝光区域，调光结构用于调节曝光区域内的透光量，以使得透光量在从曝光区域的边界到曝光区域的中心的调光方向上呈递增设置。本实用新型中，通过设置调光结构来调节曝光区域内的透光量沿调光方向呈递增设置，有助于消除隔垫物的尖锐结构而使其具有更为圆滑的外轮廓，从而弱化隔垫物处的配向膜与对组基板之间的干涉，使得隔垫物处的配向膜不易因外力作用而脱落，提升液晶显示效果。