关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种测量由基板提供的信息的方法。该基板包括通过光刻设备产生的特征。该方法包括将光束投影到设置在基板上的特征上方和/或附近的标记器上，以及由传感器检测所述标记器提供的信息。将涂层设置在基板上，以使得该涂层位于光束和该特征之间，以基本防止光束被该特征反射以及防止导致由标记器提供的信息的不精确读出。
基本信息
专利标题 ：
关于基板的信息的测量方法和用于光刻设备中的基板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1804726A
申请号 ：
CN200510119148.8
公开（公告）日 ：
2006-07-19
申请日 ：
2005-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
S·拉巴哈杜尔辛M·J·A·皮尔特斯J·豪肖尔德C·凡德文
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
肖春京
优先权 ：
CN200510119148.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 G03F9/00 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2015-02-18 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101599310334
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101191488
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20110413
终止日期 : 20131227
号牌文件序号 : 101599310334
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2005101191488
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20110413
终止日期 : 20131227
2011-04-13 ：
授权
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2006-07-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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