具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法
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摘要
一种光刻设备具有多个不同的对准装置，所述对准装置用于对相同的标记执行对准测量，通过：检测位于对象上的第一对准标记，并由第一检测器产生第一对准信号；检测所述相同的第一标记，并由第二检测器使用不同于所述第一检测器的不同的对准测量方式产生第二对准信号；接收来自所述第一检测器的所述第一对准信号；基于所述第一对准信号计算所述至少第一标记的第一位置；接收来自所述第二检测器的所述第二对准信号；基于所述第二对准信号计算所述至少第一标记的另外的第一位置。
基本信息
专利标题 ：
具有多重对准装置的光刻设备和对准测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1797204A
申请号 ：
CN200510003530.2
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-12-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
F·B·M·凡比尔森
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
杨凯
优先权 ：
CN200510003530.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-10-14 ：
授权
2008-02-20 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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