一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统
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摘要
本发明实施例公开了一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统。其中测量装置包括光源模块,用于产生第一光束和第二光束;衍射引导单元,用于引导第一光束和/或第二光束经由一维光栅衍射后的衍射光回射至一维光栅,和/或引导第一光束和/或第二光束衍射后的反射光回射至一维光栅,并输出光束;探测模块,用于接收输出光束;信号处理模块,用于计算一维光栅沿第二方向的位移和沿第三方向的位移;或者计算一维光栅沿第一方向的位移和第三方向的位移。本发明实施例的技术方案,可以实现利用一维光栅进行两个自由度的高精度、高稳定性位移测量,且可以匹配一维光栅的栅线方向切换的场景下的连续测量,具有结构简单、成本低等优点。
基本信息
专利标题 :
一种光栅可切换位移测量装置、测量方法及光刻系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112882347A
申请号 :
CN201911206979.7
公开(公告)日 :
2021-06-01
申请日 :
2019-11-29
授权号 :
CN112882347B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
吴萍
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
孟金喆
优先权 :
CN201911206979.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 G01B11/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 :
授权
2021-06-18 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191129
申请日 : 20191129
2021-06-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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