光栅位移测量方法
授权
摘要
本发明提供一种光栅位移测量方法，包括：S1、通过光源发出线偏振光，经准直后出射到光学结构上；S2、通过光学结构将线偏振光垂直入射到测量光栅的表面，并将衍射后产生携带测量信息的±1级衍射光入射至两组分束结构；S3、通过两组分束结构对±1级衍射光进行分束，产生相位为0°、90°、180°、270°的四路干涉信号传输到光电接收模块；S4、通过光电接收模块接收四路干涉信号，在进行光电转换后传输到信号处理系统；S5、通过信号处理系统用于对四路干涉信号进行相移计算，获得测量光栅的位移量。本发明将零差干涉与转向干涉方法相结合，优化读数头中的结构，运用此测量方法能够使光栅位移测量装置的结构更加紧凑、电子元件集中、扩展性强。
基本信息
专利标题 ：
光栅位移测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112097648A
申请号 ：
CN202010953614.7
公开（公告）日 ：
2020-12-18
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN112097648B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
李文昊刘兆武于宏柱王玮吉日嘎兰图姚雪峰
申请人 ：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 ：
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 ：
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹卫良
优先权 ：
CN202010953614.7
主分类号 ：
G01B11/02
IPC分类号 ：
G01B11/02 G02B27/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-01-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/02
申请日 : 20200911
申请日 : 20200911
2020-12-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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