使用散射测量的光刻测量
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种光刻设备，包括：照明器，用于调节辐射束；以及支撑装置，用于保持图形化装置。图形化装置用于根据希望的图形将辐射束图形化。该光刻设备还包括：基板台，用于保持基板；以及投影系统，用于将图形化的辐射束投射到基板的目标部分上以在基板上形成图形化的图像。该光刻设备还包括：传感器，用于截取一部分辐射束，并测量穿过图形化装置的至少一部分的辐射束的透射。
基本信息
专利标题 ：
使用散射测量的光刻测量
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1854899A
申请号 ：
CN200610071125.9
公开（公告）日 ：
2006-11-01
申请日 ：
2006-02-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
K·范因根舍洛M·H·F·詹森A·G·M·基尔斯H·范德兰P·C·P·瓦洛彭
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张雪梅
优先权 ：
CN200610071125.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2008-10-22 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-11-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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