用于光刻应用的专用测量台
授权
摘要
用于检测关于曝光部分或曝光束的参数的系统和方法。该系统包括衬底台和测量台。设置该衬底台以定位衬底以接收来自光刻系统曝光部分的曝光束。测量台具有设置成检测曝光系统或曝光束的参数的传感器系统。在一个示例中，该系统位于光刻系统内，其进一步包括照明系统、构图装置和投影系统。该构图装置构图来自照明系统的辐射束。位于曝光部分内的该投影系统将该构图束投影到衬底或传感器系统。
基本信息
专利标题 ：
用于光刻应用的专用测量台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1841207A
申请号 ：
CN200610071179.5
公开（公告）日 ：
2006-10-04
申请日 ：
2006-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·A·范德科克霍夫H·P·C·沃斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
刘红
优先权 ：
CN200610071179.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-01-06 ：
授权
2007-11-21 ：
实质审查的生效
2006-10-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
