交接力测量装置及方法、光刻机
授权
摘要
本发明提供一种交接力测量装置及方法、光刻机，通过测力单元测得工件在交接过程中的受力情况并以信号形式输出至反馈控制单元，通过所述反馈控制单元将信号分析处理后反馈至所述工件承载单元或所述工件传输单元，以控制工件的传输和吸附，进而减少交接过程中工件的变形，提高工件的交接精度。
基本信息
专利标题 ：
交接力测量装置及方法、光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112859531A
申请号 ：
CN201911194855.1
公开（公告）日 ：
2021-05-28
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN112859531B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
刘月张阔峰陈还牛增欣周美君
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN201911194855.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G01L5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-06-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191128
申请日 : 20191128
2021-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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