测试标记及利用该测试标记的光刻机离焦量测量方法
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摘要

本发明提供了一种测试标记及利用该测试标记的光刻机离焦量测量方法,所述第一区域的透光区和/或所述第二区域的透光区设置有沿所述预定方向的相移线条,由所述第一区域曝光的图案测得第一关键尺寸,由所述第二区域曝光的图案测得第二关键尺寸,所述相移线条使所述第一关键尺寸和所述第二关键尺寸具有差值。拟合计算出所述第一关键尺寸和所述第二关键尺寸的差值与离焦量的函数关系。能及时判断光刻机曝光的离焦程度,快速判断是否需要重新校准最佳焦面,及时阻止离焦导致的良率降低。在测量CDU时可以接着测量测试标记,无需转移或者重新曝光。简化测量流程,提高测量精度。节约时间,减少成本,能真实反应离焦量对于CDU结果的影响程度。

基本信息
专利标题 :
测试标记及利用该测试标记的光刻机离焦量测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112859556A
申请号 :
CN201911175714.5
公开(公告)日 :
2021-05-28
申请日 :
2019-11-26
授权号 :
CN112859556B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
朱晓亮刘泽华
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN201911175714.5
主分类号 :
G03F9/00
IPC分类号 :
G03F9/00  G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地
法律状态
2022-04-12 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20191126
2021-05-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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