光刻机
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摘要
本实用新型涉及光刻机。所述光刻机可以包括用于电接触式对准的配置，以用于相对于基板使探针、笔、尖端等的阵列调平对准，该光刻机包括机构，该机构用于相对于彼此定位探针阵列或基板，以使探针阵列和基板彼此平行地自动对准，从而用于随后的光刻制造，其中，通过将阵列的区域和基板区域配置成部分地导电并连接至相对的电极而形成多个独立的电路，反之亦然。
基本信息
专利标题 ：
光刻机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021198211.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN213240799U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
安德烈·伊万金贾里德·A·玛格林
申请人 ：
泰拉印刷有限责任公司
申请人地址 ：
美国伊利诺斯州
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄志华
优先权 ：
CN202021198211.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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