一种新型曝光机

授权

摘要

本申请涉及曝光设备技术领域，尤其是涉及一种新型曝光机，包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置，曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构，盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件，软性压片组件封盖于框架内侧，以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体，抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通，升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。本申请能够将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出，以提高光刻胶的平整度，从而提高光刻胶的曝光效果。

基本信息

专利标题：

一种新型曝光机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113448180A

申请号：

CN202110751162.9

公开（公告）日：

2021-09-28

申请日：

2021-07-01

授权号：

CN113448180B

授权日：

2022-04-01

发明人：

陈铭李金水朱世敏

申请人：

深圳市华鼎星科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A1A2栋A2栋906

代理机构：

北京维正专利代理有限公司

代理人：

黄勇

优先权：

CN202110751162.9

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20