一种新型曝光机
授权
摘要

本申请涉及曝光设备技术领域,尤其是涉及一种新型曝光机,包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置,曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构,盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件,软性压片组件封盖于框架内侧,以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体,抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通,升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。本申请能够将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出,以提高光刻胶的平整度,从而提高光刻胶的曝光效果。

基本信息
专利标题 :
一种新型曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113448180A
申请号 :
CN202110751162.9
公开(公告)日 :
2021-09-28
申请日 :
2021-07-01
授权号 :
CN113448180B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
陈铭李金水朱世敏
申请人 :
深圳市华鼎星科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明区凤凰街道凤凰社区观光路招商局光明科技园A1A2栋A2栋906
代理机构 :
北京维正专利代理有限公司
代理人 :
黄勇
优先权 :
CN202110751162.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 :
授权
2021-10-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210701
2021-09-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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