用于改善图像中的结构的基于过程的轮廓信息的方法
实质审查的生效
摘要
本文描述了产生经修改的模拟轮廓和/或基于经修改的轮廓产生量测量规的方法。一种产生用于测量衬底上的结构的物理特性的量测量规的方法包括：获得(i)与印制于所述衬底上的所述结构的所述物理特性相关联的测量数据，和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少一部分，所述模拟轮廓的所述部分与所述测量数据相关联；基于所述测量数据修改所述结构的所述模拟轮廓的所述部分；和在所述模拟轮廓的经修改的部分上或附近产生所述量测量规，所述量测量规被放置以测量所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性。
基本信息
专利标题 ：
用于改善图像中的结构的基于过程的轮廓信息的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114286964A
申请号 ：
CN202080058841.1
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-08-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑羽南范永发冯牧郑雷武王祯祥罗亚张辰骥陈骏侯振宇王进泽陈峰马紫阳郭欣程进
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080058841.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200801
申请日 : 20200801
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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