一种曝光机及其对位方法
授权
摘要
一种曝光机,其包括底座,设置于底座上的龙门机构,固定在所述龙门机构上的对位系统,设置于所述底座的多轴运动机构,置于所述多轴运动机构上的基板平台,所述对位机构包括位于两端的对位相机,位于对位相机之间的对准机构,所述基板平台包括分区域真空吸盘,可放置至少两个曝光基板,所述对准机构负责相邻曝光基板相邻边的对位。所述曝光机及其对位方法,能够快速有效的对多片相同或不同的基板进行对位曝光作业,同时也能很好的满足曝光图形的质量。
基本信息
专利标题 :
一种曝光机及其对位方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111025852A
申请号 :
CN201910946361.8
公开(公告)日 :
2020-04-17
申请日 :
2019-10-04
授权号 :
CN111025852B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
刘栋张雷
申请人 :
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201910946361.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 :
授权
2020-05-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191004
申请日 : 20191004
2020-04-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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