自动曝光机的对位结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种自动曝光机的对位结构,包括有台框模组、CCD对位机构以及升降对位平台机构,台框模组包括有下框、上框及活动框,升降对位平台机构包括有对位平台和对位升降机构;在上框的开合端两侧设有上框自动对位机构,其包括有对位气缸、对位杆、对位轴和定位块,通过对位气缸调节对位杆前进或后退以驱动对位轴上下移动来调节上框与下框的平行度。本实用新型通过给下框及上框分别设置结构简单的对位机构,使下框及上框能够很方便地与CCD对位机构达到高度平行,并且操作方便;同时通过在下框设置限位气缸,通过限位气缸可以保证柔性线路板在真空吸附状态下即使遇到震动也不会发生变形及偏移,继续保持精确的对位状态。

基本信息
专利标题 :
自动曝光机的对位结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020888985.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-25
授权号 :
CN212009278U
授权日 :
2020-11-24
发明人 :
袁强刘长征郭宇辰
申请人 :
龙岩海圣科技有限公司
申请人地址 :
福建省龙岩市武平县岩前镇高新园区东路20号
代理机构 :
广东合方知识产权代理有限公司
代理人 :
梁洪文
优先权 :
CN202020888985.7
主分类号 :
G03F9/00
IPC分类号 :
G03F9/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地
法律状态
2020-11-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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