双面曝光机的对位调整装置
专利权的终止
摘要
本实用新型是有关于一种双面曝光机的对位调整装置，设于印刷电路曝光机中的固定座上，至少由一第一微动承座、一第二微动承座、一第一动力源、一第二动力源、一第三动力源、以及一微动平板所组成。借由其三个动力源，分别驱动第一微动承座与第二微动承座进行横向、纵向平移，而移动该微动平板，以达到印刷电路的曝光对位的目的。
基本信息
专利标题 ：
双面曝光机的对位调整装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200820002804.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2008-02-18
授权号 ：
CN201171248Y
授权日 ：
2008-12-24
发明人 ：
张鸿明
申请人 ：
川宝科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县芦竹乡内溪路39巷46弄6号
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN200820002804.5
主分类号 ：
H05K3/00
IPC分类号 ：
H05K3/00 H05K3/06
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法律状态
2018-03-16 ：
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : H05K 3/00
申请日 : 20080218
授权公告日 : 20081224
申请日 : 20080218
授权公告日 : 20081224
2008-12-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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