一种双面曝光装置

授权

摘要

本实用新型提供了一种双面曝光装置，其结构合理，能够对基板进行双面曝光，同时曝光精度高，减少了生产线设备投入，占地面积小，基座上顺序设置第一工作台、第一对位系统、第一曝光系统、第二工作台、第二对位系统、第二曝光系统，第一工作台和第二工作平台分别包括多轴运动系统以及转移机构，转移机构能够抓取或释放基板，第一工作台和第二工作平台分别可滑动地安装在直线位移装置上，第一工作台抓取基板后在直线位移装置上移动，经过第一对位系统、第一曝光系统对基板的第一表面进行对位、曝光，第二工作平台从第一工作平台上转移基板后，第二工作台在直线位移装置上移动，经过第二对位系统、第二曝光系统对基板的第二表面进行对位、曝光。

基本信息

专利标题：

一种双面曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021500143.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-27

授权号：

CN213023938U

授权日：

2021-04-20

发明人：

张雷章卫平

申请人：

苏州源卓光电科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室

代理机构：

苏州国诚专利代理有限公司

代理人：

王丽

优先权：

CN202021500143.6

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20