本实用新型公开了一种双面曝光机，涉及晶闸管生产设备，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的技术问题。它包括机体，机体内安装有两个相对布置的安装座，安装座之间设有上下布置的两个安装支架，安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上；安装支架上设有光刻板定位支架，光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上；两个安装支架之间设有硅片定位支架，硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间；位于安装支架上方的机体上安装有上曝光灯，位于安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。本实用新型能同时曝光硅片的两个面，大大的提高了工作效率，同时也避免了硅片容易受到污染的问题。