贴片元器件生产用双面曝光机
授权
摘要
本实用新型公开了贴片元器件生产用双面曝光机,包括用于曝光机的滑座,滑座的顶部设置有支撑架,支撑架的左右两侧均设置有导向杆,导向杆上滑动套接有滑块,支撑架的中部设置有导轨,两个滑块的一侧设置有上定位支撑板,滑座上设置有下定位支撑板,上定位支撑板和下定位支撑板上均开设有曝光孔,上定位支撑板上设置有上光刻板,下定位支撑板上设置有下光刻板,上定位支撑板和下定位支撑板上分别设置有便于调整的第一定位组件和第二定位组件;有益效果:本实用新型通过上定位支撑板和下定位支撑板之间的导向对接,加上第一定位组件和第二定位组件的配合,在保证双面曝光机对准的精度下,提高对贴片元器件生产的固定效率,节省生产成本。
基本信息
专利标题 :
贴片元器件生产用双面曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123057350.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-08
授权号 :
CN216526728U
授权日 :
2022-05-13
发明人 :
宋波王明涛
申请人 :
淄博晨启电子有限公司
申请人地址 :
山东省淄博市周村区丝绸路1566号
代理机构 :
济南泉城专利商标事务所
代理人 :
耿媛媛
优先权 :
CN202123057350.6
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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