一种全自动双面曝光机
授权
摘要
本实用新型公开了一种全自动双面曝光机，其包括上料装置、下料装置，其还包括第一台面、第二台面、至少一个转移搬运组件和翻转搬运组件，位于所述第一台面和第二台面之间的曝光系统，所述第一台面和所述第二台面在所述曝光系统的两侧分别移动至所述曝光系统进行曝光操作，所述转移搬运组件和所述翻转搬运组件通过支架固定安装。本实用新型采用双台面，共用一个曝光系统，配合翻转搬运组件和转移搬运组件，对双台面分别进行对位曝光，两个台面可以分别对基件的两个曝光面进行对位曝光，互不干扰，曝光效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种全自动双面曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021432553.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-20
授权号 ：
CN212623568U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
钱志斌胥涛棚张雷李伟成
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021432553.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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