一种高精度全自动双面曝光机
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种高精度全自动双面曝光机,其包括机架,用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统;上框系统,位于机架内部,包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板;对准系统,包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板,对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准,对准系统设于上框系统的下方;进出料系统,包括进料系统和出料系统,用于对产品的自动进料和自动出料;机械手系统;视觉系统;曝光模块;恒温恒湿模块;控制系统。本实用新型通过对准系统和视觉系统实现双面曝光机上下掩膜版的对准,能够防止曝光时图案错位,提高曝光质量,通过对准单元能够完成多方向和角度的调整,对准精度高。

基本信息
专利标题 :
一种高精度全自动双面曝光机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921401480.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-27
授权号 :
CN210864317U
授权日 :
2020-06-26
发明人 :
李明之朱伟杰李壮
申请人 :
爱司凯科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省广州市中新广州知识城九佛建设新街18号自编112房
代理机构 :
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王桂名
优先权 :
CN201921401480.7
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-08-06 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190827
授权公告日 : 20200626
终止日期 : 20200827
2020-06-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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