双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用
公开
摘要
本发明涉及双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺：清洗玻璃→设置UV‑Cut涂层→制备ITO玻璃→双面涂布光刻胶→ITO玻璃的双面曝光、显影→ITO玻璃的双面蚀刻→印刷和镭射边缘走线→印刷可剥胶。还提供一种新型玻璃sensor，由前述制备工艺制得。本发明通过设置UV‑Cut涂层实现了在玻璃的双面同时曝光、显影、蚀刻，可避免双面曝光时相互影响ITO曝光，可有效防止单面两次蚀刻工艺造成的划伤、异物等外观不良，外观良率由80％提高至95％；取消边缘走线黄光制程，采用印刷银浆工艺，无需蚀刻，解决断线、蚀刻不净等功能问题，电性良率由90％提高至98％；简化了制备工序，提高了生产效率，有效降低了生产成本。
基本信息
专利标题 ：
双面同时曝光、显影、蚀刻的玻璃sensor制备工艺及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594662A
申请号 ：
CN202210286281.6
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-03-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李建军
申请人 ：
牧东光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区北前巷8号
代理机构 ：
苏州优博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
石煜
优先权 ：
CN202210286281.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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