显影蚀刻喷淋装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种显影蚀刻喷淋装置，包括：喷淋支架、摇摆组件以及喷盘结构，所述喷盘结构设置在所述喷淋支架上，所述摇摆组件设置在所述喷淋支架上并位于所述喷盘结构一侧，所述喷盘结构与所述摇摆组件相连接并在所述摇摆组件的带动下摇摆或者静止对垂直安装的第三方待加工PCB板进行喷射二流体精细喷雾。使现有的PCB表面处理不存在积液阻碍新药水的交换，消除水池效应，不影响药水反应的均匀性，实现精细线路的显影蚀刻。
基本信息
专利标题 ：
显影蚀刻喷淋装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022529479.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-04
授权号 ：
CN213876317U
授权日 ：
2021-08-03
发明人 ：
陈德和
申请人 ：
东莞宇宙电路板设备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市凤岗镇浸校塘振塘路1号
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
张志江
优先权 ：
CN202022529479.1
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2021-08-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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