一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置
授权
摘要

本实用新型公开一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置,包括:用于安装待腐蚀工件的载板夹具座、喷淋件、设置在所述载板夹具座与喷淋件之间的扇窗组件、旋转驱动组件,所述载板夹具座上设置有若干弹性夹;所述扇窗组件包括:导电架、可旋转地安装于所述导电架上的圆形导电窗、与所述导电架连接的接线柱,所述圆形导电窗上等间距的设置有若干开孔,所述旋转驱动组件用于驱动所述圆形导电窗旋转。本实用新型通过接线柱接电,使得导电架、圆形导电窗带电,在电场的作用下,保证喷洒出的腐蚀雾汽做定向移动,使得腐蚀雾汽定向运动形成流场,增加药水的扩散性、活跃性,提高腐蚀效果。

基本信息
专利标题 :
一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122725331.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-05
授权号 :
CN216561392U
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
胡青徐杰李哲轩
申请人 :
迈达微(深圳)半导体技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福海街道稔田社区大洋路90-10号101
代理机构 :
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 :
杨春
优先权 :
CN202122725331.X
主分类号 :
G03F7/30
IPC分类号 :
G03F7/30  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2022-05-17 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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