曝光机的对位光源
专利权的终止
摘要
一种曝光机的对位光源，是相对于摄影机设置于曝光台面另端，包括有：可见光光源，工作人员借此获取操作过程所需的光线；穿膜光源提供可有效穿透基板干膜的光线；其中穿膜光源为红外光发光二极管的阵列光源；可见光光源为日光灯或冷阴极管的灯管光源；其中进一步加设一扩散片。本实用新型具有提升对位精准度的功效。
基本信息
专利标题 ：
曝光机的对位光源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620027655.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-10-19
授权号 ：
CN201017169Y
授权日 ：
2008-02-06
发明人 ：
张鸿明
申请人 ：
川宝科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
天津三元专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
郑永康
优先权 ：
CN200620027655.9
主分类号 ：
G03B27/54
IPC分类号 ：
G03B27/54
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B27/10
••曝光时原稿和光源之间作相对移动的复制设备
G03B27/32
投影印制设备，例如，放大机、复制照相机
G03B27/52
零部件
G03B27/54
灯箱；照明装置
法律状态
2016-12-07 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101691185630
IPC(主分类) : G03B 27/54
专利号 : ZL2006200276559
申请日 : 20061019
授权公告日 : 20080206
终止日期 : 20151019
号牌文件序号 : 101691185630
IPC(主分类) : G03B 27/54
专利号 : ZL2006200276559
申请日 : 20061019
授权公告日 : 20080206
终止日期 : 20151019
2008-02-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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