阵列式X光源曝光装置
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种具有X光收敛结构的阵列式X光源曝光装置，该装置主要包括X光背光源及多个收敛透镜，其中该X光背光源还包括阴极电子发射装置、阳极靶材及透窗，该阴极电子发射装置为一种具有四极结构的多纳米碳管电子发射源，其上设有闸极层及收敛电极层，而该阳极靶材设于对应阴极电子发射装置的位置，同时阳极靶材外侧设有透窗，透窗外设有对应于电子发射源的多个收敛透镜，由此该背光源使产生的X光，经由透窗透射而出后，再经由收敛透镜聚焦，照射被照物后可精确成像于欲曝光的光阻上。
基本信息
专利标题 ：
阵列式X光源曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620121051.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-07-05
授权号 ：
CN2929777Y
授权日 ：
2007-08-01
发明人 ：
郑正元詹德凤郑奎文
申请人 ：
东元电机股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
余朦
优先权 ：
CN200620121051.0
主分类号 ：
G03B42/02
IPC分类号 ：
G03B42/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B42/00
利用光波以外的波获得记录；这类记录利用光学装置的显像
G03B42/02
利用X射线
法律状态
2009-09-02 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-08-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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